E-mail : vfuenzal@ing.uchile.cl
Magister en Ciencias con Mención en Física, Facultad de Ciencias Físicas y Matemáticas, Universidad de Chile, 1981. Tesis sobre la radiación de sincrotrón a distancias no asintóticas.
Doctor en Ingeniería Eléctrica, Universitaet der Bundeswehr Muenchen, Alemania, 1985 . Tesis sobre la cinética del crecimiento epitaxial bajo condiciones de crecimiento por haces moleculares (MBE)
Ayudante de investigación, UniBw, 1982-1984
Asistente, UniBw, 1985
Profesor asistente, DFI, FCFM, U. de Chile, 1986-
Profesor asociado, DFI, FCFM, U. de Chile,
Profesor titular, DFI, FCFM, U. de Chile,
Intereses de investigación:
-Ciencia de superficies, incluyendo cinética de crecimiento de películas delgadas y caracterización superficial por medio de espectroscopía de fotoelectrones.
-Oxidos metálicos, particularmente películas delgadas de óxidos y nanopartículas. Los procedimientos de crecimiento son fundamentalmente dos:
1) Procesos hidrotermales, en los cuales una superficie metálica o la de un óxido reacciona químicamente con iones en solución para originar películas o nanopartículas
2) Procesos en fase vapor, en los cuales un vapor sobresaturado genera nucleación homogénea en el seno de un gas portador, precipitando nanopartículas.